对接光刻机芯制程，中国电科破冰28nm离子注入机，击碎美芯封锁链

对于芯片代工厂商来说：光刻机是不可或缺的，如果没有光刻机对芯片进行曝光印章，刻蚀机将无法对芯片进行雕刻，芯片也将无法生产。除了光刻机外，离子注入机也很重要。在芯片进行曝光生产之前，如果没有离子注入机对硅片进行掺杂，芯片的电路集成规格、晶体管集成度将会大幅降低。

先给大家科普一下什么是离子注入机。离子注入机在芯片制造过程中主要负责对芯片进行电离子改造，按照预订方式改变材料的电性能。在光刻机对芯片进行曝光生产前，离子注入机对硅片进行不同元素掺杂，能够提高芯片的集成度、良品率和寿命。简单来说，离子注入机在芯片制程中起到了优化硅片、提高芯片性能的作用。

一直以来，我国的半导体厂商使用的离子注入机都是来自国外。抛去成本营收不说，长期依赖国外的技术设备，显然不利于我国半导体行业的发展。更何况现如今是在美国高强度打压我国半导体发展的背景下。
针对此类现状，中国电科潜心专研，成功击碎国外技术壁垒，推出了可供28纳米及28纳米以上制程芯片使用的离子注入机。值得一提的是：中国电科推出的28纳米离子注入机，刚好可以搭配上海微电子的28纳米光刻机，加速我们实现芯片完全自主化生产目标的脚步。

令人振奋的是：有关离子注入机的核心技术和相关设备生产方面，中国电科实现了28纳米及28纳米以上制程的全谱系国产化。也就是说，在有关28纳米、28纳米以上制程的离子注入机的相关零部件生产上，我们不用担心会被国外“卡脖子”。
虽说与国外的离子注入机相比，我们在该方面还处在比较落后的位置。但总的来说：中国电科击碎国外垄断推出的28纳米离子注入机，对于我们发展半导体行业起着重要作用。有了它，我们可以大幅度提高28纳米及28纳米以上制程芯片的良品率，提高我们在芯片代工领域中的竞争力。

况且除了手机、电脑等高端智能设备，目前大部分的半导体仪器对于芯片制程的要求还停留在28纳米以上，例如当下缺芯最严重的智能汽车领域。顺时代者，昌也。在汽车行业严重缺芯的大背景下，中国电科推出的28纳米离子注入机，不仅可以弥补我们在芯片代工设备上的不足，也会为我国代工行业的营收增长，增添一份力量。

我国对半导体行业代工领域的重视，促使很多代工厂商加快研发。目前我们在芯片代工领域中已经取得了许多突破。在有关芯片代工设备的前沿技术上，中科院实现了5纳米激光雕刻技术的应用，推出了5纳米掩膜版。中微公司推出5纳米制程的刻蚀机，在实际应用中获得了三星、台积电的订单。清华、哈工大团队破冰EUV光源壁垒，推出了与ASML公司同等水平的EUV光源。
有志者，事竟成。针对我们在半导体领域被核心技术“卡脖子”的现状。我国成立了“全国集成电路委员会”，随着越来越多“有志之士”的加入，相信过不了多久，困扰我国半导体发展的代工设备难题，将会迎刃而解。